HBM4 路线图曝光:从堆叠升级走向系统重构
三星与 SK 海力士在 HotChips 2026 上公布 HBM4 新一代技术路线,核心从 DRAM 颗粒转向 Bas…
在 HotChips 2026 国际高端芯片技术大会上,三星与 SK 海力士集中披露了 HBM4 下一代高带宽内存的技术演进路线,打破了行业沿用多年的 HBM 迭代逻辑:核心创新点从 DRAM 颗粒本身的速率与堆叠层数,全面转向 Base Die 逻辑工艺升级、混合键合 3D 堆叠以及 EMIB 异构混合封装三大方向。HBM 由此从单一存储器件,迈向「存储 + 逻辑 + 封装 + IP + EDA」一体化系统的竞争时代。
迭代逻辑切换:从颗粒提速到 Base Die 重构
在 HBM3、HBM3E 时代,行业升级逻辑相对固定,核心集中在 DRAM 存储颗粒本身:提升单颗粒传输速率、增加堆叠层数、优化微凸点互联结构。底部 Base Die 仅承担信号转接、电源分配与测试辅助等被动角色,整个产品的技术壁垒与产能瓶颈完全集中在 DRAM 制造环节。
随着 AI 算力需求指数级增长,传统路径在超高带宽场景下边际效应快速递减。单纯拉高 DRAM 速率会带来严重的信号串扰、功耗激增与时序偏移问题,二维平面优化已难以承载超大算力负载。三星与 SK 海力士在本届大会上同步释放新思路,明确 HBM4 时代的核心突破点不再是存储颗粒,而是底层 Base Die 的系统性重构。
两家厂商在技术方案上形成明显差异化:
- 三星 HBM4/HBM4E:Base Die 采用自家 4nm 逻辑工艺,CDie 使用 1c DRAM 节点,引脚速率最高 11.7 Gbps,可向上拓展至 13 Gbps,单堆栈带宽达 3.3 TB/s;借助逻辑工艺的高密度晶体管优势,集成高性能 PHY、信号纠错与电源管理模块,并将部分内存控制逻辑下沉至 Base Die,释放 GPU 端硅片面积。
- SK 海力士 HBM4:选择与台积电合作,Base Die 采用台积电 12nm 逻辑工艺,更注重量产稳定性,通过优化供电网络与热传导结构,适配 12 层乃至 16 层超高堆叠的散热与负载需求。
两种路线的差异化布局,意味着 HBM4 的 Base Die 内部逻辑架构不再统一,不同厂商产品在工艺、性能、适配场景上形成天然差异,为后续供应链适配与芯片设计迭代增加全新难度。
多重先进封装路线并行
HBM 的系统集成封装路线正走向多元化。SK 海力士在演讲中确认,正在评估英特尔 EMIB 嵌入式硅桥技术,用于 HBM4 与算力芯片之间的 2.5D 系统集成。
- CoWoS:依靠整块大面积硅中介层完成 GPU 与 HBM 的全部信号互连,性能优异,但中介层成本高昂,且受光罩尺寸限制产能扩张难度大,全球产能长期供不应求。
- EMIB:放弃整片硅中介层,仅在芯片信号交互局部嵌入微型硅桥,由有机基板承担大部分布线,可降低封装成本、突破光罩限制、实现更大规模多芯片集成,谷歌 TPU 已将 EMIB 纳入下一代方案选型。
SK 海力士的定位是将 EMIB 作为重要补充而非替代:高端训练芯片继续沿用 CoWoS,中高端推理与大算力加速器可采用 EMIB 缓解封装产能压力,形成双路线并行格局。
在 HBM 堆叠内部,多层 DRAM Die 之间的键合技术正处在从 MR-MUF 向混合键合过渡的周期。现阶段 HBM4 量产版本仍以 MR-MUF、TC-NCF 热压键合为主;混合键合可使核心芯片厚度增加 24%、TSV 间距缩小至 18 微米以下,并在增加堆叠层数的同时将热阻降低约 35%。该技术预计最早落地于 HBM5,面向 16 到 20 层及以上超高堆叠,2026 年不会大规模商用,行业普遍预期 2027–2028 年 HBM4E 与 HBM5 世代迎来规模化落地。
热管理也正式成为超高堆叠 HBM 绕不开的核心卡点。SK 海力士推出 iHBM 内置导热组件方案,在 D2D PHY 区域嵌入高导热且电绝缘的冷却组件,可额外降低 30% 以上热阻;三星则为远期 HBM5 规划铜散热通路设计,从硬件结构层面破解超高堆叠散热难题。
IP 与 3D EDA 成为隐形门槛
HBM4 的核心壁垒已从制造、封装延伸至高速 IP 与异构 EDA 工具链两大软实力环节。接口速率突破 9 Gbps、IO 位宽翻倍扩容后,高速 PHY、SerDes 接口 IP 设计难度指数级上升,需要深度适配 DRAM 颗粒特性、Base Die 逻辑架构与封装布线结构,完成信号完整性与电源完整性的联合仿真。当前全球成熟量产级 HBM4 高速 IP 资源高度集中,少数海外头部厂商垄断主流算力芯片的 IP 配套市场,对中小算力设计企业与新兴供应链形成严苛的准入壁垒。
与此同时,传统二维分立 EDA 工具无法完成 HBM4 这种多工艺、多裸片异构集成系统的跨裸片、跨工艺协同仿真;三维堆叠下电学、热学、力学效应相互耦合,单一环节仿真偏差即可导致整体设计收敛失败。大会明确指出,HBM4 规模化落地高度依赖一体化 3DIC 协同设计工具链,可实现设计、工艺、封装与多物理场仿真全流程联动。EDA 工具的适配能力与高速 IP 的调试兼容性,直接决定 HBM4 的量产良率与性能上限,也是现阶段中小厂商最难突破的核心技术壁垒。
整体来看,本届大会完整勾勒出 HBM 产业的全新进化路径:告别传统单点硬件迭代模式,迈入架构、封装、工艺、软硬件生态协同升级的系统竞争时代。三星、SK 海力士的差异化技术路线打破了行业长期的标准化格局,场景化技术分层与系统能力决胜,将成为未来 2–3 年 HBM 赛道的核心发展常态,并深度影响 AI 算力供应链的下一轮洗牌。
